C. Re, es-Betanzo., S. A, ov., and J. Swart, Grabado anisotrópico de silicio para aplicación en micromaquinado usando plasmas de SF$_{\pmb 6}$/CH$_{\pmb 4}$/O$_{\pmb 2}$/Ar y SF$_{\pmb 6}$/CF$_{\pmb 4}$/O$_{\pmb 2}$/Ar, Rev. Mex. Fís. 50, (2004).