Re, C., es-Betanzo., A, S., ov. and Swart, J. (2004) “Grabado anisotrópico de silicio para aplicación en micromaquinado usando plasmas de SF$_{\pmb 6}$/CH$_{\pmb 4}$/O$_{\pmb 2}$/Ar y SF$_{\pmb 6}$/CF$_{\pmb 4}$/O$_{\pmb 2}$/Ar”, Revista Mexicana de Física, 50(2), pp. 203–0. Available at: https://rmf.smf.mx/ojs/index.php/rmf/article/view/3242 (Accessed: 4 July 2024).