C. Re, es-Betanzo., S. A, ov., and J. Swart, “Grabado anisotrópico de silicio para aplicación en micromaquinado usando plasmas de SF$_{\pmb 6}$/CH$_{\pmb 4}$/O$_{\pmb 2}$/Ar y SF$_{\pmb 6}$/CF$_{\pmb 4}$/O$_{\pmb 2}$/Ar”, Rev. Mex. Fís., vol. 50, no. 2, pp. 203–0, Jan. 2004.