Re, C., es-Betanzo., S. A, ov., and J. Swart. “Grabado anisotrópico De Silicio Para aplicación En Micromaquinado Usando Plasmas De SF$_{\pmb 6}$/CH$_{\pmb 4}$/O$_{\pmb 2}$/Ar Y SF$_{\pmb 6}$/CF$_{\pmb 4}$/O$_{\pmb 2}$/Ar”. Revista Mexicana De Física, vol. 50, no. 2, Jan. 2004, pp. 203-0, https://rmf.smf.mx/ojs/index.php/rmf/article/view/3242.